特許
J-GLOBAL ID:200903048138210136

循環流動層炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-042597
公開番号(公開出願番号):特開2001-235128
出願日: 2000年02月21日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】【課題】 高含水率かつ水分変動の大きい汚泥等を焼却処理する際に生じる未燃ガスの発生を抑制するとともに、フリーボード内での過剰な燃焼反応を低減して炉の安定運転を可能とする循環流動層炉を提供する。【構成】 流動媒体と被燃焼物を混合しながら燃焼を行なうライザと、該ライザから飛び出した流動媒体を捕集する固気分離器と、捕集した流動媒体に流動空気を導入して移動層を形成するシールポットと、該流動媒体を前記ライザに還流させる還流路とからなる循環流動層炉において、前記還流路上若しくはその上流側に被燃焼物投入口を具えた流動媒体の流動手段を設けるとともに、該流動手段から送給される被燃焼物及び流動媒体が前記ライザ炉床部上に投入されることを特徴とする。
請求項(抜粋):
流動媒体と被燃焼物を混合しながら燃焼を行なうライザと、該ライザから飛び出した流動媒体を捕集する固気分離器と、捕集した流動媒体に流動空気を導入して流動層若しくは移動層を形成するシールポットと、該流動媒体を前記ライザに還流させる還流路とからなる循環流動層炉において、前記還流路上若しくはその上流側に被燃焼物投入口を具えた流動媒体の流動手段を設けるとともに、該流動手段から送給される被燃焼物及び流動媒体が前記ライザ炉床部上の流動層内若しくはその上方に投入されることを特徴とする循環流動層炉。
IPC (2件):
F23G 5/30 ZAB ,  F23C 10/02
FI (2件):
F23G 5/30 ZAB D ,  F23C 11/02 311
Fターム (8件):
3K064AA04 ,  3K064AA08 ,  3K064AB03 ,  3K064AC02 ,  3K064AD01 ,  3K064AD08 ,  3K064AE08 ,  3K064AE13
引用特許:
審査官引用 (4件)
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