特許

J-GLOBAL ID：200903048224050788

ペリクル

発明者： 樫田 周
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-095755
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292554
出願日： 1995年04月21日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 ペリクルをフォトマスクなどに装着しても、ペリクル膜に存在している異物がフォトマスクなどに落下しないようにしたペリクルを提供する。【構成】 本発明のペリクルは、ペリクルをマスクまたはレチクルに貼り付ける前に、ペリクル膜表面を軟化または溶融させ、ペリクル膜上の異物をペリクル膜に溶融固着させて、マスクまたはレチクル上への異物の落下を防止してなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクルをマスクまたはレチクルに貼り付ける前に、ペリクル膜表面を軟化または溶融させ、ペリクル膜上の異物をペリクル膜に溶融固着させてマスクまたはレチクル上への異物の落下を防止してなることを特徴とするペリクル。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 J ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-369649
  
• 特開平4-369649
  
• リソグラフィー用ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-245827   出願人：信越化学工業株式会社