特許

J-GLOBAL ID：200903048269028120

MOCVDに適した新規有機チタン化合物

発明者： 齋 篤 ,  橘 泰伺 ,  内田 寛人 ,  小木 勝実
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059581
公開番号（公開出願番号）：特開平11-286494
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】 有機溶媒中における溶解度が高く、溶液状態で安定であって、低温で安定に気化し、気化状態で安定で、MOCVD法の原料として用いた場合に、固体原料供給法と液体原料供給法のいずれでも、低温から高温にかけての広い温度範囲で段差被覆性に優れた、組成制御の容易な誘電体薄膜を、非常に大きな成膜速度で形成することができる、有機チタン化合物を提供する。【解決手段】 ビス(ジピバロイルメタナト)-ジイソブトキシチタンまたはビス (ジピバロイルメタナト)-ジ-(2,2-ジメチル-1-プロポキシ) チタンを、そのまま、または有機溶媒 (例、テトラヒドロフラン) に溶解させて、MOCVD法の原料として使用すると、成膜時間および溶液濃度 (液体供給法) に比例した膜厚で、微細組織の誘電体薄膜が形成される。

請求項（抜粋）：

一般式: Ti(DPM)2(OR)2で示され、DPMはジピバロイルメタンを意味し、Rはイソブチル基またはネオペンチル基である、新規有機チタン化合物。

IPC (4件)：

C07F 7/28 ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/12 303

FI (4件)：

C07F 7/28 B ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 F ,  H01B 3/12 303

引用特許：

審査官引用 (2件)

• チタン錯体及びその合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-003333   出願人：東京応化工業株式会社
• 金属錯体を原料とする試薬
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-501754   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド