複合ガス導入システムおよび方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-612540
公開番号（公開出願番号）：特表2002-542142
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】気相堆積システム(10)の反応アセンブリ(30)は、ガレット出口(34b)に通じる反応チャンバ(38)と、シース出口(32b)に通じるシース(36)とを備える。ガレット出口(34b)およびシース出口(32b)は反応アセンブリ(30)の先端(30b)に位置し、その先端(30b)には複合ノズル(14)を備える。反応アセンブリ(30)は、複合ノズル(33)から目標基板(14)に向けて放出するための複合ガス流(42)を生成する。複合ガス流(42)は、試薬ガス流(44)とシースガス流(46)とを備え、シースガス流(46)は少なくとも部分的に試薬ガス流(44)を包んでいる。複合ガス流(42)を生成・配送する方法ならびに気相堆積を行う方法も開示されている。

請求項（抜粋）：

基板上に物質を気相堆積させるために試薬ガスを該基板に送達する方法であって、前記基板に向けて試薬ガス流を放出する工程を有し、前記試薬ガス流は少なくとも部分的にシースガス流内に被包されている方法。

IPC (2件)：

C30B 29/38 , C30B 25/14

FI (2件)：

C30B 29/38 D , C30B 25/14

Fターム (10件)：

4G077AA03 , 4G077BE13 , 4G077BE15 , 4G077DB05 , 4G077EA06 , 4G077EG22 , 4G077EG28 , 4G077EH06 , 4G077TH05 , 4G077TH11

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭59-021600
特開平2-222134
エピタキシャルウェハおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-018707 出願人：住友電気工業株式会社

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