特許
J-GLOBAL ID：200903048393237773

弾性体

発明者：
松下 卓史

松下 卓史 について


出願人/特許権者：
株式会社フコク

株式会社フコク について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-170276
公開番号（公開出願番号）：特開2002-326304
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月12日
要約：
【要約】【課題】 高分子弾性体よりなる基材と強固な結合を有し、かつ柔軟性を有する基材表層に炭素系被膜を備えた弾性体を提供すること。【解決手段】 ゴム又はエラストマーよりなる基材3と、上記基材の表層の少なくとも一部に炭素系イオンの注入処理後、炭素系イオンを堆積させてなる炭素系被膜3cとを備えたこととしたものである。また、上記炭素系被膜3cは、上記基材を導体に接続した状態で真空槽内に配置し、上記真空槽内にガスを導入し、上記導体を通じて高周波電力を印加して、上記基材の周囲に上記ガスのプラズマを発生させ、上記導体を通じて上記基材3に高電圧パルスを印加することにより、上記プラズマ中の炭素系イオンを基材表層に誘引注入処理し、炭素系イオンを堆積させて設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ゴム又はエラストマーよりなる基材と、上記基材の表層の少なくとも一部に炭素系イオンの注入処理後、炭素系イオンを堆積させてなる炭素系被膜とを備えたことを特徴とする弾性体。
IPC (5件)：
B32B 9/00 ,  C08J 7/06 CEQ ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/517 ,  C08L 21:00
FI (5件)：
B32B 9/00 Z ,  C08J 7/06 CEQ Z ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/517 ,  C08L 21:00
Fターム (32件)：
4F006AA04 ,  4F006AB63 ,  4F006BA02 ,  4F006BA12 ,  4F006DA01 ,  4F100AA37A ,  4F100AA37C ,  4F100AK17B ,  4F100AL09B ,  4F100AN00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA13 ,  4F100EJ611 ,  4F100EJ612 ,  4F100GB32 ,  4F100GB51 ,  4F100JK06 ,  4F100JK16 ,  4F100JM02A ,  4F100JM02C ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030FA03 ,  4K030KA20 ,  4K030LA11
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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