ゴム・樹脂にダイヤモンド状炭素膜を形成する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川瀬茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-227456
公開番号（公開出願番号）：特開平10-053870
出願日： 1996年08月08日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【目的】ゴムや樹脂など柔軟で弾性に富む材料の上にダイヤモンド状炭素膜を被覆する事。【構成】電子線、紫外線をゴム、樹脂に照射し未結合原子を表面に多数分布させ、フッ素系ガス、水素ガスのプラズマによって処理して表面を不純物汚染から守り、その後炭化水素を含むガスを供給しつつプラズマCVD法、イオンプレーティング法、スパッタリング法によってダイヤモンド状炭素膜を被覆する。

請求項（抜粋）：

基材であるゴム或いは樹脂に紫外線または電子線或いは両方を照射して表面に未結合炭素原子を生成したのち、炭化水素ガスを原料として供給しこれを励起して気相反応させ、ゴム或いは樹脂の表面にダイヤモンド状炭素膜を形成するようにした事を特徴とするゴム・樹脂にダイヤモンド状炭素膜を形成する方法。

IPC (5件)：

C23C 16/02 , C08J 7/00 303 , C08J 7/06 CEQ , C23C 16/26 , C30B 29/04

FI (5件)：

C23C 16/02 , C08J 7/00 303 , C08J 7/06 CEQ Z , C23C 16/26 , C30B 29/04 P

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-306567
特開昭61-146791
特開平1-188675

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