特許

J-GLOBAL ID：200903048415317156

基板位置検出装置、基板位置調整装置、エリプソメータおよび膜厚測定装置

発明者： 赤鹿 久美子
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-229055
公開番号（公開出願番号）：特開2009-063314
出願日： 2007年09月04日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：

【課題】基板位置検出装置において、装置の大型化を抑制しつつ高速かつ高精度な位置検出を実現する。【解決手段】膜厚測定装置の基板位置検出装置では、撮像部51の撮像素子511による基板9上の撮像領域が、位置検出部5の撮像部回転機構52により回転される。これにより、基板9を保持するステージを回転する機構を設けることなく、基板9のエッジ92を周方向の複数の撮像位置において容易に撮像して基板9の位置を検出することができる。その結果、基板を水平方向に移動する機構の上に基板を回転させる機構を設ける従来の装置に比べて、膜厚測定装置の基板の位置検出に係る構造の大型化を抑制することができるとともに高速かつ高精度な基板9の位置検出を実現することができる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板の位置を検出する基板位置検出装置であって、 装置基台と、 前記装置基台上に設けられ、略円板状の基板を保持する基板保持部と、 前記基板のエッジの一部を含む基板画像を取得する撮像部と、 前記基板の位置が前記装置基台に対して固定された状態において、前記基板の主面に垂直であって前記装置基台に対して固定された所定の中心軸を中心として前記撮像部の撮像領域を前記エッジに沿って回転する撮像領域回転機構と、 前記撮像部および前記撮像領域回転機構を制御することにより、前記中心軸を中心とする周方向における3以上の撮像位置において撮像を行って3以上の基板画像を出力する撮像制御部と、 前記3以上の基板画像に基づいて、前記基板の前記主面に平行な方向における前記基板の前記装置基台に対する相対位置を求める基板位置演算部と、 を備えることを特徴とする基板位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  H01L 21/68 ,  G01B 11/06

FI (3件)：

G01B11/00 H ,  H01L21/68 F ,  G01B11/06 Z

Fターム (37件)：

2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065AA30 ,  2F065BB03 ,  2F065CC17 ,  2F065CC31 ,  2F065DD06 ,  2F065FF42 ,  2F065FF50 ,  2F065FF66 ,  2F065GG03 ,  2F065GG24 ,  2F065HH08 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL67 ,  2F065NN20 ,  2F065PP05 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  5F031CA02 ,  5F031JA03 ,  5F031JA04 ,  5F031JA13 ,  5F031JA27 ,  5F031JA32 ,  5F031JA36 ,  5F031MA33

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プリアライナ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-157771   出願人：株式会社安川電機