特許
J-GLOBAL ID:200903048422374858
廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収装置及びその方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
宮越 典明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-086517
公開番号(公開出願番号):特開平9-047635
出願日: 1996年04月09日
公開日(公表日): 1997年02月18日
要約:
【要約】【課題】 廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収装置及びその方法を提供すること。【解決手段】 吸着塔2,3からなる二塔式連続吸着装置を用い、この吸着塔2,3は、孔径を異にする次の吸着剤を充填した3層からなる吸着剤層(A),(B),(C)で構成されている。・吸着剤層(A):約5オングストロ-ムの孔径を持つ合成ゼオライト・吸着剤層(B):約7オングストロ-ムの孔径を持つ合成ゼオライト・吸着剤層(C):約80オングストロ-ムの孔径を持つ疎水性シリカゲルガス状炭化水素含有廃棄ガスを上記吸着塔2,3で処理することで、該ガス状炭化水素の濃度の如何にかかわらず、1VOL%以下のクリ-ンなガスとして大気中に排出することができる。また、本発明に係る装置は、可搬可能なポ-ダブル式の装置とすることができる。
請求項(抜粋):
単塔式ないしは多塔式の吸着装置を用いて廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素を処理・回収する装置において、該吸着装置に充填する吸着剤として、孔径が4〜100オングストロ-ムの合成ゼオライト及び/又は疎水性シリカゲルを用い、かつ該吸着剤からなる吸着層が、孔径を異にする前記吸着剤を混合してなる混合層又は孔径を異にする前記吸着剤をそれぞれ多層に充填してなる吸着剤層からなることを特徴とする廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収装置。
IPC (5件):
B01D 53/72
, B01D 53/04
, B01D 53/34 ZAB
, B01J 20/10
, B01J 20/18
FI (5件):
B01D 53/34 120 D
, B01D 53/04 G
, B01J 20/10 D
, B01J 20/18 B
, B01D 53/34 ZAB
引用特許: