特許
J-GLOBAL ID：200903048443199886
熱CVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
北村 欣一
, 原嶋 成時郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185930
公開番号（公開出願番号）：特開2006-009073
出願日： 2004年06月24日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】基板サイズが大型化された場合においても、加熱手段と基板との間に設置される赤外線透過窓の厚みを大気圧に対して強度保持のために厚くすることを防止し、コストアップを抑えることができる熱CVD装置を提供する。【解決手段】真空チャンバー2内を赤外線透過窓としての石英ガラス3によって基板5を設置する側と基板5を加熱する複数の赤外線ランプ8を設置する側とに分離し、成膜プロセス工程中において、基板5側のチャンバー下部室2aに原料ガスとしての一酸化炭素ガスと水素ガスの混合ガスを導入するとともに、赤外線ランプ8側のチャンバー上部室2aに不活性ガスとしてのアルゴンガスを導入し、かつ仕切りバルブ15、及び19を開放し真空ポンプ16を稼動して、チャンバー下部室2aとチャンバー上部室2aの圧力が略同じになるように制御する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に設置される基板に対して、前記基板の膜形成面側と対向するようにして前記真空チャンバー内に設けた加熱手段と、
前記真空チャンバー内の前記基板側と前記加熱手段側との間を通気可能状態で分離するように設置した熱線を透過す赤外線透過窓と、
前記真空チャンバー内の前記赤外線透過窓により分離された前記基板側に原料ガスを供給する原料ガス導入手段と、
前記真空チャンバー内の前記赤外線透過窓により分離された前記加熱手段側に不活性ガスを供給する不活性ガス導入手段と、
前記真空チャンバー内の前記赤外線透過窓により分離された前記基板側から排気する排気手段と、を備えた、
ことを特徴とする熱CVD装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4K030AA14
, 4K030AA17
, 4K030BA27
, 4K030CA06
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030JA09
, 4K030KA37
, 4K030LA18
