特許
J-GLOBAL ID：200903038427293168

グラファイトナノファイバー薄膜形成用CVD装置のクリーニング方法

発明者：
平川 正明

平川 正明 について

, 
村上 裕彦

村上 裕彦 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (1件)： 北村 欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-308976
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115064
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：
【要約】【課題】 グラファイトナノファイバー薄膜形成用CVD装置のクリーニング方法の提供。【解決手段】 炭素含有ガスと水素ガスとの混合ガスを、真空チャンバー内にガス噴射ノズル手段を介して導入し、熱CVD法により、被処理基板上にグラファイトナノファイバー薄膜を形成させる工程中に該真空チャンバーの内壁、該被処理基板を保持するための基板ホルダー、該基板ホルダーを支えるための支柱、該ガス噴射ノズル手段等に付いた付着物を除去するため、該薄膜形成工程の終了後、該真空チャンバー内に空気等の酸素含有ガスを導入し、500〜650°Cで加熱処理する。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に、炭素含有ガスと水素ガスとの混合ガスを、該真空チャンバー内に設けられたガス噴射ノズル手段を介して導入し、熱CVD法により被処理基板上にグラファイトナノファイバー薄膜を形成させる工程中に該真空チャンバーの内壁、該被処理基板を保持するための基板ホルダー、該基板ホルダーを支えるための支柱、該ガス噴射ノズル手段等に付いた付着物を除去するため、該薄膜形成工程の終了後、該真空チャンバー内に酸素含有ガスを導入し、加熱処理することを特徴とするグラファイトナノファイバー薄膜形成用CVD装置のクリーニング方法。
IPC (5件)：
C23C 16/44 ,  B08B 9/08 ,  C01B 31/02 101 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/46
FI (5件)：
C23C 16/44 J ,  B08B 9/08 ,  C01B 31/02 101 F ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/46
Fターム (22件)：
3B116AA33 ,  3B116AB51 ,  3B116BC01 ,  4G046CA01 ,  4G046CA02 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4G046CC09 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030BB12 ,  4K030BB14 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030DA03 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  4K030HA04 ,  4K030JA10 ,  4K030KA24
引用特許：
審査官引用 (6件)
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