特許
J-GLOBAL ID：200903048455448024

防曇膜の形成方法

発明者：
高橋 年哉

高橋 年哉 について

, 
小野寺 大輔

小野寺 大輔 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-071431
公開番号（公開出願番号）：特開2008-274409
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2008年11月13日
要約：
【課題】優れた防曇性を有し、かつ、強度も高い防曇膜の形成方法を提供する。【解決手段】無機酸化物を主成分とする防曇膜を気相成膜法によって形成するに際し、防曇膜を形成する基板12の法線と、防曇膜の材料粒子が前記基板に入射する入射方向とが成す角度を20〜85°として、防曇膜の形成を行う。さらに基板と材料源との距離を100〜2000mmとし、成膜圧力を5x10-4〜5x101Paとし、基板温度を600°C以下に制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
無機酸化物を主成分とする防曇膜を気相成膜法によって形成するに際し、 前記防曇膜を形成される基板の法線と、防曇膜の材料粒子が前記基板に入射する入射方向とが成す角度を20〜85°として、前記防曇膜の形成を行なうことを特徴とする防曇膜の形成方法。
IPC (7件)：
C23C 14/54 ,  C03C 17/245 ,  C03C 17/09 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/24 ,  G02B 5/08 ,  G02B 1/10
FI (7件)：
C23C14/54 Z ,  C03C17/245 A ,  C03C17/09 ,  C23C14/08 ,  C23C14/24 U ,  G02B5/08 F ,  G02B1/10 Z
Fターム (35件)：
2H042DA16 ,  2H042DA18 ,  2H042DB11 ,  2H042DC02 ,  2H042DE01 ,  2H042DE02 ,  2H042DE08 ,  2K009DD03 ,  2K009EE02 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AA11 ,  4G059AC21 ,  4G059DA00 ,  4G059DA01 ,  4G059DA04 ,  4G059DA06 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA46 ,  4K029BB10 ,  4K029BD07 ,  4K029CA01 ,  4K029CA02 ,  4K029DB05 ,  4K029DB10 ,  4K029DB21 ,  4K029EA03 ,  4K029EA07 ,  4K029EA08 ,  4K029JA01
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特許第2901550号公報
  • 特許第3694881号公報
  • 防曇鏡およびその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-320696   出願人：東陶機器株式会社
審査官引用 (3件)

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