特許
J-GLOBAL ID:200903048525014795
走査型プローブ加工観察装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-080444
公開番号(公開出願番号):特開平6-295694
出願日: 1993年04月07日
公開日(公表日): 1994年10月21日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、表示された試料像上での加工領域の設定を、加工領域の大きさにかかわらず、一定の高精度で行なえるようにする手段を提供することにある。【構成】 走査型プローブ加工観察装置において、像観察用走査アドレス発生機構9’は倍率とシフトの指定にしたがって全部の2次元アドレスの中から一定間隔で2次元ピクセルの数分だけ選んで一連の2次元アドレスを発生してプローブを走査する。試料像合成変換機構11は試料像形成機構10から読み込んだ試料像を倍率とシフトの指定とともに蓄積し、一枚の試料像に合成して、該合成した試料像を試料像表示装置7の画面のウインドウを通してスクロール可能に表示する。【効果】 本発明によれば、プローブで走査可能な領域全体の試料像上で任意の大きさの加工領域を一定であるプローブ走査分解能の精度で設定できるので、高精度の加工が行なえる効果がある。
請求項(抜粋):
2次元アドレスで指定される試料上の一点にプローブを位置決めするプローブ制御機構と、該試料の該プローブで接触した点より発生する2次粒子を検出して2次粒子信号を出力する2次粒子検出機構と、加工領域の指定によって該プローブ制御機構に一連の2次元アドレスを送って該プローブを該試料上で任意の方法で走査させる加工用走査アドレス発生機構と、該プローブ制御機構に一連の2次元アドレスを送って該プローブを該試料上で一定の方法で走査させる像観察用走査アドレス発生機構と、該像観察用走査アドレス発生機構と連動して、該2次粒子信号を記憶していき試料像を形成する試料像形成機構と、該試料像を2次元ピクセルの集合として画面上のウインドウに表示し、かつ該試料像に該加工領域の指定を重ねて表示する試料像表示機構と、を備えた走査型プローブ加工観察装置において、上記2次元アドレスの分解能が、上記2次元ピクセルの分解能の2の整数乗倍であり、上記像観察用走査アドレス発生機構が、倍率指定およびシフト指定によって該2次元アドレスの中から該2次元ピクセルの数分だけで、一定間隔で選んで一連の2次元アドレスを発生させる機能を有し、上記試料像形成機構と上記試料像表示機構の間に試料像合成変換機構を備え、該試料像合成変換機構が、上記試料像形成機構から出力された試料像を上記倍率指定及びシフト指定と共に複数枚蓄積する機能と、該蓄積した複数枚の試料像を、それぞれに付随する倍率指定に基づき現在の倍率指定に合わせて拡大または縮小してから、それぞれに付随するシフト指定に基づき新しいものほど上になるように重ね合わせて、プローブで走査可能な試料上の領域全体に対応する一枚の試料像に合成する機能と、該合成された試料像を現在のシフト指定に基づき、試料像表示装置の画面のウインドウのサイズに切り取って出力する機能とを有する、ことを特徴とする走査型プローブ加工観察装置。
IPC (4件):
H01J 37/22
, H01J 37/28
, H01J 37/30
, H01J 37/305
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平4-079140
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顕微鏡遠隔観察システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-035639
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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特開昭62-015741
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特開昭59-201352
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観察位置表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-059081
出願人:住友金属工業株式会社
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