特許

J-GLOBAL ID：200903048539022030

電解イオン水を使用したプリント基板の洗浄方法

発明者： 高橋 政之 ,  中川 善一 ,  西村 清司 ,  三宅 俊幸 ,  大塚 俊實 ,  栗田 均 ,  山田 隆 ,  十河 正親
出願人/特許権者： 高橋金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-329695
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284776
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 電子部品を半田付けにて実装したプリント基板を洗浄する。【解決手段】 電気分解によって生成したアルカリ性水と酸性水を圧力水にしてプリント基板に噴射して洗浄する。

請求項（抜粋）：

電子部品を半田付けにて実装したプリント基板を洗浄する方法において、洗浄水として、電気分解によって生成したアルカリ性水又は酸性水を圧力水にしてプリント基板に噴射して洗浄する方法。

IPC (3件)：

H05K 3/26 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (4件)：

H05K 3/26 A ,  H05K 3/26 E ,  B08B 3/02 A ,  B08B 3/08 Z

Fターム (18件)：

3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB96 ,  3B201CC12 ,  5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343CC33 ,  5E343CC43 ,  5E343CC52 ,  5E343CC54 ,  5E343EE01 ,  5E343EE04 ,  5E343EE18 ,  5E343FF23 ,  5E343GG11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 洗浄装置および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-236028   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 金属はく張り積層板の洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-169808   出願人：日立化成工業株式会社