特許
J-GLOBAL ID:200903048561504626
吸着剤並びにガス精製方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木戸 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-117726
公開番号(公開出願番号):特開2003-311148
出願日: 2002年04月19日
公開日(公表日): 2003年11月05日
要約:
【要約】【課題】 各種ガス中に含まれる一酸化炭素、窒素、一酸化二窒素、一酸化窒素、二酸化窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素、酸素等の微量不純物を選択的にppmレベル以下まで吸着除去して超高純度のガスを得ることができる吸着剤を提供するとともに、この吸着剤を使用したガス精製方法及び装置を提供する。【解決手段】 一酸化炭素、窒素、一酸化二窒素、一酸化窒素、二酸化窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素及び酸素の少なくとも1種を微量不純物として含む精製対象ガスを、銅イオン交換したZSM-5型ゼオライトからなる吸着剤に接触させて前記微量不純物を前記精製対象ガス中から1ppm以下にまで除去することにより、精製対象ガスの純度を99.9999容量%以上にする。
請求項(抜粋):
一酸化炭素、窒素、一酸化二窒素、一酸化窒素、二酸化窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素及び酸素の少なくとも1種を微量不純物として含む精製対象ガス中の前記微量不純物を吸着除去するための吸着剤であって、銅イオン交換したZSM-5型ゼオライトからなることを特徴とする吸着剤。
IPC (5件):
B01J 20/18
, B01D 53/02
, B01D 53/04
, B01J 20/30
, B01J 20/34
FI (5件):
B01J 20/18 A
, B01D 53/02 Z
, B01D 53/04 G
, B01J 20/30
, B01J 20/34 F
Fターム (21件):
4D012BA02
, 4D012CA20
, 4D012CB16
, 4D012CD01
, 4D012CG01
, 4G066AA61B
, 4G066AA62B
, 4G066BA50
, 4G066CA27
, 4G066CA28
, 4G066CA29
, 4G066CA32
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA38
, 4G066CA51
, 4G066DA05
, 4G066FA22
, 4G066FA34
, 4G066FA37
, 4G066GA06
引用特許:
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