特許
J-GLOBAL ID：200903048575086142
パターン寸法測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050772
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251224
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 測定ポイントを決定するためのパターンマッチングを正確に行うことができ、SEMで自動的にパターンの寸法を測定する。【解決手段】 走査型電子顕微鏡を用いて複数の微細パターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法において、電子ビームで任意の微細パターン上を走査して2次電子像を得、得られた2次電子像に対して、予め設定されたパターンの形状判断基準を満たすか否かを判断し、判断処理の結果、基準を満たす場合はパターン寸法の測定を行い、基準を満たさない場合はパターン寸法の測定を行わずに次の測定ポイントに移る。
請求項（抜粋）：
走査型電子顕微鏡を用いて複数の微細パターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法において、電子ビームで任意の微細パターン上を走査してSEM画像を得る工程と、得られたSEM画像に対して、予め設定されたパターンの形状判断基準を満たすか否かを判断する工程と、判断処理の結果、基準を満たす場合はパターン寸法の測定を行い、基準を満たさない場合はパターン寸法の測定を行わずに次の測定ポイントに移る工程とを含むことを特徴とするパターン寸法測定方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01B 15/00
, G03F 7/26 501
H01L 21/30 502 V
, G01B 15/00 B
, G03F 7/26 501
