光学マスクの欠陥修正方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-350944
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258777
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【目的】位相シフトマスクの欠陥修正において、欠陥の形状によらない、高精度かつ容易に修正できる、光学マスク及びその修正方法の提供にある。【構成】位相シフトマスクの位相シフターとガラス基板間にエッチングストッパ層を設け、位相シフターの欠陥を荷電ビームとエッチングガスを組み合わせた反応性処理により、位相シフターの欠陥を選択性良く除去し、欠陥の形状に影響されずに、加工深さ精度の良い修正ができる。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に遮光パターンを形成し、該遮光パターンの特定の開口部に露光光の位相を変える位相シフターを設けた投影光学系用マスクにおける前記位相シフターの欠陥を修正する方法であって、前記位相シフターの欠陥の近傍にフッ素系のガスをガスノズルから供給し、該フッ素系のガスを供給した状態で前記位相シフターの欠陥を含む領域に集束したイオンビームを照射し、該イオンビームの照射により前記位相シフターの欠陥を含む領域と該領域の下部の前記ガラス基板の一部とを除去加工することを特徴とする光学マスクの欠陥修正方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (3件)：

G03F 1/08 T , H01L 21/30 502 W , H01L 21/302 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-196041
特開平4-288542
レチクル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-145114 出願人：富士通株式会社

全件表示

前のページに戻る