特許
J-GLOBAL ID：200903048601368950

フォトマスクパタン欠陥検査方法および微細図形パタンの検出方法

発明者：
山崎 清司

山崎 清司 について

, 
鳴河 照悟

鳴河 照悟 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-059551
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258463
出願日： 2001年03月05日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 OPC補正が施されたフォトマスクの欠陥を、効率よく検査する方法を提供する。【解決手段】 所定の検査機により、フォトマスクのパタンとマスク描画データとを比較することにより、フォトマスクのパタンの欠陥部を検出するフォトマスクパタン欠陥検査方法であって、描画データである図形パタンデータと、図形パタンデータの描画位置情報である図形パタンデータ配置情報とを含み、且つ、描画データである図形パタンデータにOPC補正が施されている、マスク描画データから、フォトマスクパタンの検査により、本来欠陥部として検出されるべきでないのに欠陥部として検出されることが多い微細図形パタンで、OPC補正された箇所以外の、テグパタン等の微細図形パタンを、予め抽出しておき、フォトマスクパタンの検査に際し、前記本来欠陥部として検出されるべきでない微細図形パタン箇所については、欠陥としない。
請求項（抜粋）：
所定の検査機により、フォトマスクのパタンとマスク描画データとを比較することにより、フォトマスクのパタンの欠陥部を検出するフォトマスクパタン欠陥検査方法であって、描画データである図形パタンデータと、図形パタンデータの描画位置情報である図形パタンデータ配置情報とを含み、且つ、描画データである図形パタンデータにOPC(Optical Proximity Correct)補正が施されている、マスク描画データから、フォトマスクパタンの検査により、本来欠陥部として検出されるべきでないのに欠陥部として検出されることが多い微細図形パタンで、OPC補正された箇所以外の、テグパタン等の微細図形パタンを、予め抽出しておき、フォトマスクパタンの検査に際し、前記本来欠陥部として検出されるべきでない微細図形パタン箇所については、欠陥としないことを特徴とするフォトマスクパタン欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (4件)：
G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (14件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051ED01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB36 ,  2H095BD04 ,  2H095BD27 ,  2H095BD28 ,  4M106AA09 ,  4M106CA39 ,  4M106DJ18
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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