ウエハの温度制御方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-502125
公開番号（公開出願番号）：特表平11-507473
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】ウエハがチャック上に位置決めされたガスプラズマやノンプラズマ等の環境下で、処理中のウエハ温度の制御方法及び装置。ウエハは加熱され、圧縮ガスはウエハとチャックの間の空間に注入されてウエハからチャックへ熱を伝導する。希望ウエハ温度を保つため、実際のウエハ温度と希望ウエハ温度の差に応じてウエハとチャックの間の熱伝導性が変わるように、圧縮ガスの圧力を自動的に変化させる。

請求項（抜粋）：

処理中のウエハの温度制御方法であって、チャックに対してウエハを位置決めする工程と、ウエハを加熱する工程と、ウエハからチャックへ圧縮ガスが熱を伝導するように、ウエハとチャックの間の空間へを圧縮ガス注入する工程と、希望ウエハ温度を保つため、実際のウエハ温度と希望ウエハ温度の差に応じてウエハとチャックの間の熱伝導が変化するように、自動的に圧縮ガスのガス圧を変化させる工程と、を備えたことを特徴とする温度制御方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 R , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

真空処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-160203 出願人：株式会社日立製作所

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