特許

J-GLOBAL ID：200903048663555837

荷電粒子線装置

発明者： 岩井 俊道
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035466
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子を被試験デバイスに照射し、当該照射部位から発生する2次電子を検出する2次電子検出手段に使用される高圧直流電源において、この高圧直流電源の発生電圧の切替え時のセットリング時間を大幅に低減可能とする荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】被試験デバイスの測定部位へサンプリング用の荷電粒子ビームパルスを照射し、これから得られる2次電子を検出する2次電子検出手段を備える荷電粒子線試験装置において、上記2次電子検出手段に備えるフォトマルの複数電極に対して直列接続した分圧抵抗により高圧直流電圧の供給において前記分圧抵抗へ供給する高圧直流電圧を2群に分割し、一方へは所定の一定の直流高電圧を供給し、他方へは発生電圧の出力変更時のセットリング時間を高速にする荷電粒子線装置。

請求項（抜粋）：

被試験デバイス(DUT)の測定部位へサンプリング用の荷電粒子ビームパルスを照射し、これから得られる2次電子を検出する2次電子検出手段を備える荷電粒子線試験装置において、該2次電子検出手段に備えるフォトマルの複数電極に対して直列接続した分圧抵抗により高圧直流電圧の供給において該分圧抵抗へ供給する高圧直流電圧を2群に分割し、一方へは所定の一定の直流高電圧を供給し、他方へは発生電圧の出力変更時のセットリング時間を高速にすることを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (2件)：

G01R 31/302 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01R 31/28 L ,  H01L 21/66 C

Fターム (12件)：

2G032AA00 ,  2G032AD08 ,  2G032AF08 ,  2G032AL00 ,  4M106AC13 ,  4M106BA02 ,  4M106BA03 ,  4M106BA14 ,  4M106DE20 ,  4M106DE24 ,  4M106DH24 ,  4M106DJ24

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 誘導結合プラズマ質量分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-260207   出願人：横河電機株式会社
• 特開平1-157050
  
• 特開平1-157050