特許

J-GLOBAL ID：200903048697233014

有機溶剤含有ガス処理システム

発明者： 杉浦 勉 ,  山倉 健三郎 ,  池野 友明
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-285967
公開番号（公開出願番号）：特開2008-100187
出願日： 2006年10月20日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：

【課題】多成分の有機溶剤含有ガスを吸着材を含むハニカム状吸着素子で吸着除去し、その際に濃縮された有機溶剤を冷却により凝縮回収して処理するシステムにおいて、特定の有機溶剤を効率よく回収し、回収できない有機溶剤も効率よく処理し、凝縮による回収される排水量を減らし、また排水中の有機溶剤濃度を高め、更に有機溶剤の品質の低下を抑制させる有機溶剤含有ガス処理システムを提供する。【解決手段】冷却操作により凝縮して液化回収できないガスをハニカム状吸着素子の入口に戻して循環させてハニカム状吸着素子の入口濃度を向上させることで除去率を低下させ、該ハニカム状吸着素子を通過した未回収の有機溶剤含有ガスを再びハニカム状吸着素子により吸着除去し、一方で加熱空気により吸着した有機溶剤を脱着し、脱着した有機溶剤含有ガスを溶剤回収装置または燃焼装置により処理する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

有機溶剤含有ガス中の有機溶剤をハニカム状吸着素子により吸着除去し、一方で加熱空気により吸着した有機溶剤を脱着し、脱着した有機溶剤含有ガスを冷却操作により凝縮させて液化回収するシステムにおいて、該システムで冷却操作により凝縮して液化回収できないガスをハニカム状吸着素子の入口に戻して循環させてハニカム状吸着素子の入口濃度を向上させることで除去率を低下させ、該ハニカム状吸着素子を通過した未回収の有機溶剤含有ガスを再びハニカム状吸着素子により吸着除去し、一方で加熱空気により吸着した有機溶剤を脱着し、脱着した有機溶剤含有ガスを溶剤回収装置または燃焼装置により処理する事を特徴とする有機溶剤含有ガス処理システム。

IPC (2件)：

B01D 53/06 ,  B01J 20/18

FI (2件)：

B01D53/06 A ,  B01J20/18 A

Fターム (19件)：

4D012BA02 ,  4D012CA10 ,  4D012CA11 ,  4D012CC05 ,  4D012CD01 ,  4D012CE01 ,  4D012CE03 ,  4D012CF10 ,  4D012CG01 ,  4D012CH06 ,  4D012CJ10 ,  4G066AA61B ,  4G066BA23 ,  4G066BA38 ,  4G066CA04 ,  4G066DA03 ,  4G066FA37 ,  4G066GA01 ,  4G066GA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2946608号公報
  
• 溶剤濃縮回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-195812   出願人：株式会社神戸製鋼所

審査官引用 (1件)

• 有機溶剤蒸気処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-384690   出願人：株式会社西部技研