特許

J-GLOBAL ID：200903048755322111

排水処理装置

発明者： 井坂 和一 ,  角野 立夫
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-312227
公開番号（公開出願番号）：特開2005-074410
出願日： 2003年09月04日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】再加熱処理した担体を生物処理槽から流出させない排水処理装置を提供する。【解決手段】排水処理装置10において、生物処理槽12内の担体は担体回収装置22により定期的に回収され、加熱処理槽14へ送られる。加熱処理槽14で加熱処理されて収縮した担体は形状復帰槽16へ送られ、生物処理槽と同じ水温下で30分以上浸漬される。浸漬された担体は形状復帰しているため、生物処理槽12へ返送してもスクリーン20により処理水とともに生物処理槽12の外へ流出することを防止できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

加熱処理により所望の微生物を優先的に集積させた含水性の担体を用いて、生物処理槽内で排水を生物処理するとともに、前記担体を加熱処理槽で定期的に再加熱処理する排水処理装置であって、 前記加熱処理槽から前記生物処理槽へ前記担体を返送する経路に、加熱処理後の担体を一定時間水中に浸漬させる形状復帰槽を設けたことを特徴とする排水処理装置。

IPC (4件)：

C02F3/10 ,  C02F3/00 ,  C02F3/34 ,  C12M1/00

FI (4件)：

C02F3/10 Z ,  C02F3/00 G ,  C02F3/34 101D ,  C12M1/00 H

Fターム (23件)：

4B029AA02 ,  4B029AA21 ,  4B029BB02 ,  4B029BB06 ,  4B029CC01 ,  4B029CC05 ,  4B029CC13 ,  4B029DA03 ,  4B029DB11 ,  4B029DF06 ,  4B029DG04 ,  4B029DG08 ,  4B029DG10 ,  4D003AA14 ,  4D003AB02 ,  4D003CA10 ,  4D003DA28 ,  4D003DA30 ,  4D003EA30 ,  4D003EA38 ,  4D003FA01 ,  4D040BB42 ,  4D040BB82

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特願昭60-44131号公報
  
• 亜硝酸型硝化担体及びその製造方法並びにそれを用いた窒素除去方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-016344   出願人：日立プラント建設株式会社