特許
J-GLOBAL ID：200903048760500591
高度に誘発性の複屈折を示す光アドレス指定可能基質および光アドレス指定可能側基ポリマー類
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-541496
公開番号（公開出願番号）：特表2000-514468
出願日： 1997年05月15日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：
【要約】本質的にゆっくりと光アドレス指定し得るポリマーから得られる基質を大きな面積に渡って通常の刻み込みに適した光源で照射することで該基質の面内に光学的異方性、即ち優先的な方向を有する複屈折を生じさせることを通して、上記ポリマーから極めて迅速に光アドレス指定し得る記憶媒体を製造することができる。このようにして調製した基質を短期間強力に照射すると、パターンが極めて迅速かつ永久的に刻み込まれる。本発明は、また、高い光学的異方性を照射で生じさせることができる新規な側鎖ポリマーにも関する。この光学的異方性は非常に高い熱安定性を示す。
請求項（抜粋）：
光アドレス指定可能ポリマーから生じさせた0.001から0.95の光学的異方性Δnを示す平らな材料を該光学的異方性を部分的に選択的に変えることを通して光学的に利用できる情報を記憶させる目的で用いる使用。
IPC (5件)：
C08F220/34
, C08F220/38
, C08F220/60
, C08J 5/18
, G11B 7/24 526
C08F220/34
, C08F220/38
, C08F220/60
, C08J 5/18
, G11B 7/24 526 B
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
