特許
J-GLOBAL ID:200903038338949858

光記録材料およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大野 精市
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-222297
公開番号(公開出願番号):特開平8-085259
出願日: 1994年09月19日
公開日(公表日): 1996年04月02日
要約:
【要約】【目的】 構成が単純で、透過光量あるいは反射光量に重みづけが可能で、しかも消去可能な光記録材料をおよびその製造方法を提供する。【構成】 ガラス中に半導体微粒子および/または金属微粒子を分散させたことを特徴とし、さらに、半導体微粒子および/または金属微粒子の合計の濃度が、0.1%以上50%以下であり、望ましくは0.1%以上10%以下である光記録材料である。前記半導体微粒子は、テルル化カドミウム、セレン化カドミウム、硫化亜鉛などの2-6族化合物半導体やGaAsをはじめとする3-5族半導体、Siなどの4族半導体である。
請求項(抜粋):
ガラス中に半導体微粒子および/または金属微粒子を分散させたことを特徴とする光記録材料。
IPC (3件):
B41M 5/26 ,  G11B 7/24 506 ,  G11B 7/26
引用特許:
審査官引用 (17件)
  • 特開昭61-177284
  • 特開昭60-186804
  • 特開昭61-069959
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