特許
J-GLOBAL ID：200903048785669442
ボイラシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-087015
公開番号（公開出願番号）：特開2004-290829
出願日： 2003年03月27日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】水分の影響によりボイラに生じる腐食を薬剤を用いずに抑制する。【解決手段】原水を軟水化する軟水化手段6と、この軟水化手段6により処理された水を非不動態化金属体の腐食促進成分を捕捉可能で、かつ非不動態化金属体の腐食抑制成分を透過可能なろ過膜なろ過膜によりろ過するろ過手段7と、このろ過手段により処理された水をボイラへ供給する給水手段2とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原水を軟水化する軟水化手段6と、この軟水化手段6により処理された水を非不動態化金属体の腐食促進成分を捕捉可能で、かつ前記非不動態化金属体の腐食抑制成分を透過可能なろ過膜なろ過膜によりろ過するろ過手段7と、このろ過手段により処理された水をボイラへ供給する給水手段2とを備えるボイラシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01D61/14 500
, F22B37/52 Z
4D006GA07
, 4D006KA01
, 4D006KB30
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MA04
, 4D006MB01
, 4D006MC54
, 4D006PA01
, 4D006PB07
, 4D006PB28
, 4D006PC31
