特許
J-GLOBAL ID：200903048799146019

紫外線又は紫外線より波長の短い光を用いた材料の表面加工方法及び表面加工装置、並びにそれらを用いた高分子化合物からなる製品の製造方法及び製造装置

発明者：
田畑 修

田畑 修 について


出願人/特許権者：
関西ティー・エル・オー株式会社

関西ティー・エル・オー株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 三彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-039595
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236798
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：
【要約】【課題】 LIGAプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むX線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。【解決手段】 加工対象となる材料の表面に紫外線又は紫外線より波長の短い光を照射する光照射工程1の後、前記材料を加熱してその表面を溶融させる加熱処理工程2、もしくは前記材料に溶剤を作用させてその表面を溶融させる溶剤処理工程3、又はこれら加熱処理工程2及び溶剤処理工程3の双方を行なう。
請求項（抜粋）：
材料の表面に紫外線又は紫外線より波長の短い光を照射した後、前記材料を加熱してその表面部分を溶融させ、もしくは前記材料に溶剤を作用させてその表面部分を溶融させ、又はこれらの双方を行なうことを特徴とする紫外線又は紫外線より波長の短い光を用いた材料の表面加工方法。
IPC (3件)：
B81C 1/00 ,  B81C 5/00 ,  G03F 7/20 502
FI (3件)：
B81C 1/00 ,  B81C 5/00 ,  G03F 7/20 502
Fターム (4件)：
2H097CA12 ,  2H097CA13 ,  2H097CA15 ,  2H097LA15
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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