特許
J-GLOBAL ID：200903048820117393

光学式変位計および光学式変位計に用いられるビーム変換アタッチメント

発明者：
山下 吉弘

山下 吉弘 について

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石川 展玄

石川 展玄 について

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中島 浩貴

中島 浩貴 について


出願人/特許権者：
オムロン株式会社

オムロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 由充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350699
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156208
出願日： 2000年11月17日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：
【要約】【課題】 対象物に当たったときの光像がライン形状となるレーザビームとスポット形状となるレーザビームとを選択して用いることを可能となす。【解決手段】 この発明の光学式変位計は、対象物に当たったときの光像がライン形状となる第1のレーザビームを生成する第1の投光光学系と、対象物に当たったときの光像がスポット形状となる第2のレーザビームを生成する第2の投光光学系3とを含むもので、第1、第2のレーザビームのいずれかを対象物に当てるように構成される。第2の投光光学系3は、第1のレーザビームを集光するための集光レンズ30を含み、第1の投光光学系が組み込まれた計器本体1の外面に、第1の投光光学系の光軸上に前記集光レンズ30が位置するように装着される。
請求項（抜粋）：
レーザビームを対象物に当て、対象物での反射光を受光素子で受光して、変位計測を行う光学式変位計において、対象物に当たったときの光像がライン形状となる第1のレーザビームを生成する第1の投光光学系と、対象物に当たったときの光像がスポット形状となる第2のレーザビームを生成する第2の投光光学系とを含み、第1、第2の投光光学系の少なくとも一方を機能させて、第1、第2のレーザビームのいずれかを対象物に当てるようにした光学式変位計。
IPC (3件)：
G01B 11/00 ,  G01B 11/02 ,  G01C 3/06
FI (3件)：
G01B 11/00 B ,  G01B 11/02 Z ,  G01C 3/06 A
Fターム (25件)：
2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065AA24 ,  2F065AA25 ,  2F065BB05 ,  2F065FF09 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH05 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL08 ,  2F065LL24 ,  2F065PP12 ,  2F065UU01 ,  2F112AA09 ,  2F112BA03 ,  2F112CA06 ,  2F112DA06 ,  2F112DA25 ,  2F112DA32 ,  2F112DA40
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 投光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-126349   出願人：三菱重工業株式会社
  • 光学式測定装置及び測定方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-171226   出願人：本田技研工業株式会社
  • 光学式変位測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-342256   出願人：松下電工株式会社

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