特許
J-GLOBAL ID：200903048834714343
位相差板の製造方法およびそれにより製造される位相差板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-087389
公開番号（公開出願番号）：特開2005-274909
出願日： 2004年03月24日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 透明基材と光学異方性層との密着性に優れる位相差板を低コストで効率良く製造することができる位相差板の製造方法およびそれにより得られた位相差板を提供する。 【解決手段】 まず、透明基材上に表面改質剤を含む層を形成し、表面改質層とする。次に、前記表面改質層の上に液晶化合物含有層を形成し、さらに、前記液晶化合物含有層に含まれる液晶化合物を規則的に配向させ、そして、前記液晶化合物の配向状態を固定化して光学異方性層を形成する。本発明では、前記表面改質剤として使用する化合物の一端に透明基材と反応しやすいイソシアナト基、アルコキシシリル基等の官能基が含まれ、かつ、他端に液晶化合物と反応して結合を形成しやすいビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等の官能基が含まれることにより、透明基材と光学異方性層との密着性が高い位相差板が得られる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明基材と光学異方性層とを含む位相差板の製造方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする製造方法。
(1) 透明基材上に下記化学式(I)で表される表面改質剤を含む層を形成し、表面改質層とする工程。
(2) 前記表面改質層の上に液晶化合物含有層を形成する工程。
(3) 前記液晶化合物含有層に含まれる液晶化合物を規則的に配向させる工程。
(4) 前記液晶化合物の配向状態を固定化して光学異方性層を形成する工程。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BB51
, 2H049BB62
, 2H049BC04
, 2H049BC09
, 2H049BC22
, 2H091FA11X
, 2H091FA11Z
, 2H091FA12X
, 2H091FA12Z
, 2H091FB02
, 2H091FB12
, 2H091FC21
, 2H091FD15
, 2H091GA01
, 2H091GA06
, 2H091GA17
, 2H091HA06
, 2H091LA19
