特許

J-GLOBAL ID：200903048922618575

基板搬送装置

発明者： 杉本 憲司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221147
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064658
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 平面的なスペース小さくかつ駆動系および制御構成を簡単にして、基板処理部との間での基板の受け渡しを良好に行えるようにする。【構成】 基板W1またはW2を保持する基板保持部材24を第1の基板加熱ユニット6との基板受け渡し位置にわたって変位するように構成し、かつ、基板保持部材24の移動経路の途中箇所に、基板W1またはW2の外周縁を保持する基板収納部材31を昇降可能に設け、基板保持部材24により第1の基板加熱ユニット6から搬出した基板W2を基板収納部材31に保持させ、次いで、先に基板収納部材31に保持させていた基板W1を基板保持部材24により第1の基板加熱ユニット6内に搬入する。

請求項（抜粋）：

基板処理部に基板を搬送して受け渡しする基板搬送装置であって、前記基板を保持する基板保持部材を設けるとともに、その基板保持部材を前記基板処理部との基板受け渡し位置にわたって変位する水平移動手段を設け、前記基板保持部材の移動経路の途中箇所に、前記基板保持部材との間で前記基板を受け渡し可能に上下方向に所定間隔を隔てた複数の箇所で前記基板を収納保持する基板収納部材を設けるとともに、前記基板保持部材に対して前記基板収納部材を相対的に昇降する昇降機構を設けたことを特徴とする基板搬送装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/1333 500 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-110506   出願人：東京エレクトロン山梨株式会社