特許
J-GLOBAL ID:200903048930770254

光ファイバ芯線及び光ファイバテープの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-212798
公開番号(公開出願番号):特開2002-029786
出願日: 2000年07月13日
公開日(公表日): 2002年01月29日
要約:
【要約】【解決手段】 少なくとも1種類の電子線硬化可能な樹脂組成物を裸光ファイバ芯線に塗工後、電子線照射により樹脂組成物を硬化し、単層又は多層樹脂被覆された光ファイバ芯線を製造する方法において、上記電子線硬化可能な樹脂組成物が(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ10〜90wt%と、(B)反応性希釈剤10〜90wt%を含み、かつ、上記電子線照射が(a)電子線の加速電圧が50kV以上150kV以下であり、(b)電子線照射装置の電子線出口と光ファイバ芯線表面の距離が0.5mm以上10mm未満であり、(c)照射雰囲気が大気圧の窒素又はヘリウムであり、(d)雰囲気中の酸素濃度が1,000ppm以下であり、(e)光ファイバ芯線に対して少なくとも2方向から照射するものであることを特徴とする光ファイバ芯線の製造方法。【効果】 本発明によれば、光ファイバ芯線及び光ファイバテープの伝送特性を損なうことなく、効率よく光ファイバ芯線及び光ファイバテープを製造することができる。
請求項(抜粋):
少なくとも1種類の電子線硬化可能な樹脂組成物を裸光ファイバ芯線に塗工後、電子線照射により樹脂組成物を硬化し、単層又は多層樹脂被覆された光ファイバ芯線を製造する方法において、上記電子線硬化可能な樹脂組成物が(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ10〜90wt%と、(B)反応性希釈剤10〜90wt%を含み、かつ、上記電子線照射が(a)電子線の加速電圧が50kV以上150kV以下であり、(b)電子線照射装置の電子線出口と光ファイバ芯線表面の距離が0.5mm以上10mm未満であり、(c)照射雰囲気が大気圧の窒素又はヘリウムであり、(d)雰囲気中の酸素濃度が1,000ppm以下であり、(e)光ファイバ芯線に対して少なくとも2方向から照射するものであることを特徴とする光ファイバ芯線の製造方法。
IPC (5件):
C03C 25/24 ,  G02B 6/44 301 ,  G02B 6/44 ,  G02B 6/44 371 ,  G02B 6/44 391
FI (5件):
G02B 6/44 301 B ,  G02B 6/44 301 A ,  G02B 6/44 371 ,  G02B 6/44 391 ,  C03C 25/02 B
Fターム (15件):
2H001BB15 ,  2H001KK17 ,  2H001MM01 ,  2H001PP01 ,  2H050BA17 ,  2H050BB07W ,  2H050BB14W ,  2H050BB17W ,  2H050BB34W ,  4G060AA20 ,  4G060AC16 ,  4G060AD22 ,  4G060AD24 ,  4G060CB09 ,  4G060CB22
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 電子線照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-013944   出願人:岩崎電気株式会社

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