特許
J-GLOBAL ID:200903048957967718
チタン酸ジルコン酸鉛に関する安定ゾルの調製方法およびそのようなゾルからのフィルムの作製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-528725
公開番号(公開出願番号):特表2005-503311
出願日: 2002年09月19日
公開日(公表日): 2005年02月03日
要約:
本発明は、PZTとして知られているとともにPbZrxTi(1-x)O3 、0.45≦x≦0.7という組成を有したチタン酸ジルコン酸鉛に関するゾルの調製方法に関するものであって、この方法においては、(a)チタンベースの前駆体とジルコニウムベースの前駆体と鉛ベースの前駆体とを備えてなる濃縮ゾルをジオール内において調製し;(b)濃縮ゾルを、時間の関数として一定粘度となるまで、撹拌することなく雰囲気温度において静置し;(c)ステップ(a)において使用したジオールと互換性のある溶媒を使用して、ステップ(b)において得られたゾルを、希釈する。本発明は、また、このような安定ゾルからのPZTをベースとしたフィルムの作製方法に関するものである。
請求項(抜粋):
PZTと略記されるとともにPbZrxTi(1-x)O3 、0.45≦x≦0.7という組成を有したチタン酸ジルコン酸鉛に関するゾルの調製方法であって、
(a)チタンベースの前駆体とジルコニウムベースの前駆体と鉛ベースの前駆体とを備えてなる濃縮ゾルをジオール内において調製し;
(b)前記濃縮ゾルを、時間の関数として一定粘度となるまで、撹拌することなく雰囲気温度において静置し;
(c)前記ステップ(a)において使用した前記ジオールと互換性のある溶媒を使用して、前記ステップ(b)において得られたゾルを、希釈する;
ことを特徴とする調製方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C01G25/00
, H01L27/10 444C
Fターム (11件):
4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC01
, 4G048AC02
, 4G048AD10
, 4G048AE08
, 5F083FR01
, 5F083JA15
, 5F083PR23
, 5F083PR33
, 5F083PR34
引用特許:
引用文献: