特許
J-GLOBAL ID：200903048977173670
露光方法および露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025828
公開番号（公開出願番号）：特開平7-235474
出願日： 1994年02月24日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 露光方法において、基板段差部分からの反射光を簡便な方法で低減する。【構成】 露光照明系より照射された光の偏光を段差を有する基板5の形状に合わせて制御する。【効果】 基板5の段差部分の反射率はS偏光とP偏光で異なる。S偏光では反射光が遮光部2による遮光部分まで侵入してしまうのに対し、P偏光では侵入しない。このため、入射光の偏光を基板段差の方向に対しP偏光とすることにより、基板反射の影響を低減することができる。
請求項（抜粋）：
露光照明系より照射された光をマスクに透過させて、前記マスク上のパターンを基板上に塗布したレジストに転写する露光方法において、前記露光照明系より照射された光の偏光を前記基板の形状に合わせて制御することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 527
, H01L 21/30 515 D
