特許

J-GLOBAL ID：200903048995740107

ガス分離体の製造方法

発明者： 酒井 修 ,  中村 真二 ,  川江 孝行 ,  吉田 均
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094321
公開番号（公開出願番号）：特開平8-266876
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【構成】 多孔質基体の表面より有機物を実質的に除去するための処理を行って、次いで、この多孔質基体にガス分離膜を形成するガス分離体の製造方法。この処理としては、空気中において500°C以上に加熱すること等の加熱処理が挙げられる。【効果】 ガス分離膜に生じるピンホールが減少する。従って、ガス分離体で分離するガスの純度が向上する。

請求項（抜粋）：

多孔質基体と、当該多孔質基体に被覆するガス分離膜とを有するガス分離体の製造方法であって、当該多孔質基体の表面より有機物を実質的に除去するための処理を行って、次いで、当該多孔質基体に当該ガス分離膜を形成することを特徴とするガス分離体の製造方法。

IPC (3件)：

B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50

FI (3件)：

B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水素分離膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-244643   出願人：三菱重工業株式会社