特許
J-GLOBAL ID：200903049024954816
位相シフト・リソグラフィ・マスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-283553
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227140
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【課題】 交互エレメント位相シフト・マスクの構造およびその製造方法を提供する。【解決手段】 X方向に延びるすべてのマスク・パターン要素を、第1のマスク基板上に形成し、Y方向に延びるすべてのマスク・パターン要素を、第2のマスク基板上に形成する。2つのマスク基板を、ウェハ上への単一の露光工程のために、単一のマスクに組合せる、あるいは各マスクにより別個の露光を行い、単一のマスク・ウェハ上に重ね合せる。
請求項（抜粋）：
X方向要素およびY方向要素を含むパターンに配置された複数の要素物質を有する位相シフト・リソグラフィ・マスクであって、前記X方向は前記Y方向に直交し、前記X方向要素およびY方向要素は、第1の零位相シフト要素および第2のπラジアン位相シフト要素を含み、第1の実質的に透明な基板を含む第1の位相シフト・マスク層を有する位相シフト・リソグラフィ・マスクにおいて、前記第1の基板上に配置された複数のX方向マスク要素を有し、前記第1の零位相シフトX方向要素および前記第2のπラジアン位相シフトX方向要素が、前記第1の基板上に、交互に隣り合って配置され、第2の実質的に透明な基板を含む第2の位相シフト・マスク層と、前記第2の基板上に配置された複数のY方向マスク要素を有し、前記第1の零位相シフトY方向要素および前記第2のπラジアン位相シフトY方向要素が、前記第2基板上に、交互に隣り合って配置されている、ことを特徴とする位相シフト・リソグラフィ・マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
