特許
J-GLOBAL ID:200903049040551713

消音作動の空気圧ブレーキブースタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 正巳 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-517350
公開番号(公開出願番号):特表平11-500378
出願日: 1995年10月12日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】本発明は、対称軸線(X-X′)を有し、且つ、部分真空源に常時接続される前方室(14)と、可動壁(12、20)の孔(26)内をスライドしさらに軸線方向の制御ロッド(30)に固定されたプランジャ(28)によって駆動される三方弁(36)をもって前方室(14)又は外部大気に選択的に接続される後方室(16)とに可動壁構造体(12、20)によって密封態様で区分されているケーシング(10)を包含し、三方弁(36)が、ケーシング(10)の外側に突出する可動壁構造体(12、20)の後方管状部分(22)に配置され、且つ、プランジャ(28)に形成された第1の弁座(28a)を備えた第1の環状面(A)を介して、さらに可動壁(20)に形成された第2の弁座(20a)を備えた第2の環状面(B)を介して相互に作用する弁要素(36)を包含している、空気圧ブレーキブースタ装置に関する。本発明によると、第2の環状面(B)は、第1の環状面(A)が位置している横断面より前方の横断面に位置し、第1(A)及び第2(B)の環状面は、プランジャ(28)の面(D)に面して位置する弁要素(36)の面(C;C1、C2)によって互いに連結され、第1の環状面(A)と弁要素(36)の面(C;C1、C2)とが、プランジャ(28)に形成された第1の弁座(28a)と共に、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)の関数が直線でない断面の弁通路(28a、36)を画成する。
請求項(抜粋):
1 対称軸線(X-X′)を有し、且つ、部分真空源に常時接続される前方室(14)と、可動壁(12、20)の孔(26)内をスライドしさらに軸線方向の制御ロッド(30)に固定されたプランジャ(28)によって駆動される三方弁(36)をもって前方室(14)又は外部大気に選択的に接続される後方室(16)とに可動壁構造体(12、20)によって密封態様で区分されているケーシング(10)を包含し、三方弁(36)が、ケーシング(10)の外側に突出する可動壁構造体(12、20)の後方管状部分(22)に配置され、且つ、プランジャ(28)に形成された第1の弁座(28a)を備えた第1の環状面(A)を介して、さらに可動壁(20)に形成された第2の弁座(20a)を備えた第2の環状面(B)を介して相互に作用する弁要素(36)を包含している空気圧ブレーキブースタ装置において、第2の環状面(B)は、第1の環状面(A)が位置している横断面より前方の横断面に位置し、第1(A)及び第2(B)の環状面は、プランジャ(28)の面(D)に面して位置する弁要素(36)の面(C;C1、C2)によって互いに連結され、第1の環状面(A)と弁要素(36)の面(C;C1、C2)とが、プランジャ(28)に形成された第1の弁座(28a)と共に、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)の関数が直線でない断面の弁通路(28a、36)を画成することを特徴とする空気圧ブレーキブースタ装置。2 請求項1記載のブースタ装置において、弁要素(36)の面(C)が円筒形状で、しかも、プランジャ(28)に形成された弁座(28a)と共に、弁通路(28a、36)を画成し、その断面は、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)のあらゆる値が一定であることを特徴とするブースタ装置。3 請求項1記載のブースタ装置において、弁要素(36)の面(C)が切頭円錐状で、しかも、プランジャ(28)に形成された弁座(28a)と共に、弁通路(28a、36)を画成し、その断面は、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)が変化する時、実質的に一定であることを特徴とするブースタ装置。4 請求項1記載のブースタ装置において、弁要素(36)の面(C1、C2)が半径方向肩部(50)によって分離された2つの面(C1、C2)より形成され、第1の面(C1)は、第1の弁座(28a)と共に、その断面が第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)の第1の関数である弁通路(28a、36)を画成し、第2の面(C2)は、第1の弁座(28a)と共に、その断面が第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)の第2の関数である弁通路(28a、36)を画成ことを特徴とするブースタ装置。5 請求項4記載のブースタ装置において、弁要素(36)の第1の面(C1)が切頭円錐状で、且つ、プランジャ(28)に形成された弁座(28a)と共に、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)が変化する時、その断面が第1の実質的に一定の値に等しい弁通路(28a、36)を画成し、そして、弁要素(36)の第2の面(C2)が切頭円錐状で、且つ、プランジャ(28)に形成された弁座(28a)と共に、第1の弁座(28a)と第1の環状面(A)との間の距離(d)が変化する時、その断面が第2の実質的に一定の値に等しい弁通路(28a、36)を画成し、第2の値が第1の値より大きいことを特徴とするブースタ装置。6 上記各請求項のひとつに記載のブースタ装置において、面(C;C1、C2)に面しているプランジャ(28)の面(D)は切頭円錐状で、且つ、この面と共に前方へ発散する体積を形成することを特徴とするブースタ装置。7 上記各請求項のひとつに記載のブースタ装置において、切頭円錐状の面(C;C1、C2)の頂点の半角が0から20度の間にあることを特徴とするブースタ装置。8 上記各請求項のひとつに記載のブースタ装置において、弁要素(36)の第1の面(C1)の軸線方向長さ(K)が0.3から2ミリメートルの間であることを特徴とするブースタ装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-048258
  • 特開平2-048258
  • 特開平2-048258
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