特許

J-GLOBAL ID：200903049166784624

レーザ加工方法及び装置

発明者： 木下 真言
出願人/特許権者： リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-056158
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226772
出願日： 1998年02月19日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 プラスチック材上に同一形状のパターンを任意の角度に傾けて形成することができるレーザ加工方法及び装置を提供する。【解決手段】 紫外レーザ光を出射するエキシマレーザ1と、該レーザ1からのレーザ光Lを所定の開口パターンが形成されたアパチャマスク5を通してプラスチック材8に照射する光学系とを備えたレーザ加工装置において、アパチャマスク5を通過したレーザ光Lを、該レーザ光の光軸Loを中心に回転させるレーザ光回転手段を設ける。このレーザ光回転手段は、3枚のミラーを組み合わせて構成することができる。

請求項（抜粋）：

レーザ光を、所定の開口パターンが形成されたアパチャマスクを通して加工対象物に照射することにより、該加工対象物上に凹部又は貫通孔からなるパターンを形成するレーザ加工方法において、該アパチャマスクを通過したレーザ光を、該レーザ光の光軸を中心に回転させることを特徴とするレーザ加工方法。

IPC (5件)：

B23K 26/06 ,  G02B 7/198 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 511 ,  H01S 3/00

FI (6件)：

B23K 26/06 J ,  B23K 26/06 E ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 511 ,  H01S 3/00 B ,  G02B 7/18 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-035387   出願人：日本電気株式会社
• 特開平2-155582
  
• 特開平2-155582