特許

J-GLOBAL ID：200903049213479410

洗浄水供給ノズル

発明者： 森 俊 ,  稲葉 和徳
出願人/特許権者： 株式会社ディスコ
代理人 (1件)： 佐々木 功 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-077317
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270407
出願日： 1997年03月28日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】半導体ウェーハ等の洗浄を行う洗浄装置等に備えた洗浄水供給ノズルにおける洗浄水噴射時の静電気の発生、及び、噴射口の広がりを防止する。【解決手段】洗浄水供給ノズルを構成するスプレーチップの素材をを焼結ダイヤモンドとし、これにコバルトを含有させて、導電性を高めると共に、硬度を増大させる。

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハを洗浄する洗浄装置等に備えた洗浄水供給ノズルであって、洗浄水を噴射する細孔を穿設した焼結ダイヤモンドチップと、該焼結ダイヤモンドチップを保持するホルダー本体と、該ホルダー本体の内側に嵌入して前記焼結ダイヤモンドチップをホルダー本体との間で挟持するリングとから構成される洗浄水供給ノズル。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  B05B 1/00 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  B05B 1/00 Z ,  B08B 3/02 G

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 回転式基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-138668   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウォータージェットノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-224159   出願人：旭ダイヤモンド工業株式会社
• 特開平4-176349
  
• 特開平3-097671
  

審査官引用 (4件)

• 回転式基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-138668   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウォータージェットノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-224159   出願人：旭ダイヤモンド工業株式会社
• 特開平4-176349
  
• 特開平3-097671