特許

J-GLOBAL ID：200903079906928958

回転式基板洗浄装置

発明者： 佐々木 忠司 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-138668
公開番号（公開出願番号）：特開平8-299918
出願日： 1995年05月11日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 基板表面の膜厚とか膜種とか汚染物の種類などに応じ、基板表面に対するノズルの傾斜角度を容易に変更する。【構成】 鉛直方向の第3の軸芯P3周りで回転する支軸10に第1および第2の支持ブラケット11a,11bを介してノズル12を設け、ノズル12から噴出される洗浄液の基板表面での到達点を基板Wの回転中心Cから外周端縁に移動させ、回転可能に保持された基板Wの表面に、ノズル12から洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するように構成し、第1の支持ブラケット11aに、ノズル12から基板の表面の回転中心Cに洗浄液を噴出する状態で、回転中心Cとノズル12の先端とを含む面内で回転中心Cを中心とする仮想円の円弧長穴13を介して第2の支持ブラケット11bを取り付け、ノズル12の傾斜角度を変更しても、到達点が基板Wの回転中心Cを必ず通るようにする。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するノズルと、前記ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点が前記基板の回転中心と外周端縁との間を移動するように前記ノズルを移動するノズル移動手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、前記ノズル移動手段に設けられて基板表面に対する傾斜角度を変更可能に前記ノズルを保持するノズル保持手段を設け、前記ノズル保持手段に、前記ノズルから前記基板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状態で、基板表面の回転中心と前記ノズルの先端とを含む面内で前記回転中心を中心とする仮想円に沿って前記ノズルを移動する円弧ガイドを備えたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 341 N

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ウエハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-298345   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 特開平1-297186