特許

J-GLOBAL ID：200903049239309130

エキシマ光照射装置の照度測定機構

発明者： 藤原 良憲
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 田原 寅之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135075
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332324
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】実際にワークに紫外線が照射される任意の場所の短波長の紫外線強度を正確に測定することができるエキシマ光照射装置の照度測定機構を提供する。【解決手段】処理室20と紫外線透過板13で区画されるランプハウス10内の誘電体バリア放電ランプ11からの光の照度測定機構を、放電ランプから放射される光を受光し、受光した光エネルギーに比例した電気信号を出力する受光器30と、受光器が載置される受光台40と、受光台を横走行させて処理室内に進入させると共に上昇させて受光器を紫外線透過板に密着させ、照度測定後に受光台を下降させ、処理室から退避させる受光台駆動部と、受光台が処理室から退避したときに受光器を処理室から遮蔽する遮蔽板70とで構成する。

請求項（抜粋）：

被処理物であるワークを密閉可能な処理室内に配置し、該処理室と紫外線透過板で区画されるランプハウス内の誘電体バリア放電ランプからの光をワークに照射するエキシマ光照射装置における該ランプの放射照度を測定するための照度測定機構であって、該放電ランプから放射される光を受光し、受光した光エネルギーに比例した電気信号を出力する受光器と、該受光器が載置される受光台と、該受光台を横走行させて処理室内に進入させると共に上昇させて該受光器を紫外線透過板に密着させ、照度測定後に受光台を下降させ、該処理室から退避させる受光台駆動部と、該受光台が処理室から退避したときに該受光器を該処理室から遮蔽する遮蔽板と、からなることを特徴とするエキシマ光照射装置の照度測定機構。

IPC (2件)：

H01S 3/092 ,  G01J 1/02

FI (2件)：

H01S 3/092 ,  G01J 1/02 S

Fターム (16件)：

2G065AA03 ,  2G065AB05 ,  2G065AB27 ,  2G065BA01 ,  2G065BB21 ,  2G065BB26 ,  2G065BD01 ,  2G065CA29 ,  2G065DA15 ,  5F072AA06 ,  5F072HH02 ,  5F072HH03 ,  5F072JJ09 ,  5F072KK30 ,  5F072RR05 ,  5F072YY08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-183910   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-238433
  
• 特開昭59-032822