パターン検査方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-291135
公開番号（公開出願番号）：特開2007-103645
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】レシピを実行する際にCADデータとパターン検査装置間のずれ量を求め、それを記憶することで、以後実行、作成するレシピを自動化する。【解決手段】CADデータからレシピを作成する際に、グローバルアライメント点のマッチング用パターンとして、優先度をつけた複数のパターンをレシピに登録する。作成したレシピを最初にパターン検査装置で実行する際、グローバルアライメント点へ移動した後、優先度順にマッチング用パターンを使用してパターンマッチングを行う(801〜803)。パターンマッチングが成功すれば、パターンが見つかった位置の座標と、CADデータから指定された座標を使用してグローバルアライメントを行い、ずれ量と回転量を求める。用意したマッチング用パターン全てで、パターンマッチングが失敗した場合は、レシピを一時停止し、オペレータがレシピに保存されている座標にあるべきパターンを撮像した画像上で指定し(804-806)、指定した位置の座標とCADデータから指定された座標を使用して、グローバルアライメントを行う。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハに形成されたパターンをパターン検査装置にて検査するパターン検査方法において、前記パターン検査装置が、被検半導体ウェーハのグローバルアライメント点のマッチング用パターンとして半導体チップ内のパターンのCADデータから作成した複数のマッチング用パターンとその座標が優先度をつけて登録されているレシピを読み込む工程と、視野を前記レシピに登録された複数のグローバルアライメント点へ移動し、前記登録された複数のマッチング用パターンを優先度順に使用して被検半導体ウェーハ上のパターンとパターンマッチングを行う工程と、前記パターンマッチングによって検出されたパターンの座標とCADデータ上の座標とを用いてグローバルアライメントを行い、CADデータの座標と当該パターン装置の座標間のずれ量と回転量を求める工程と、を実行することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (1件)：

H01L 21/66

FI (1件)：

H01L21/66 J

Fターム (6件)：

4M106AA01 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DB04 , 4M106DJ20 , 4M106DJ23

引用特許：

出願人引用 (1件)

ウエハのアライメント方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-228834 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社

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