特許
J-GLOBAL ID:200903049373643518

水素吸蔵合金の再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-335446
公開番号(公開出願番号):特開2002-146449
出願日: 2000年11月02日
公開日(公表日): 2002年05月22日
要約:
【要約】【課題】 表面に酸化被膜が形成されて劣化した水素吸蔵合金を簡便に、かつ低コストで粉末状のまま再生できる再生方法を提供する。【解決手段】 表面に酸化被膜が形成されて劣化した水素吸蔵合金3を密閉容器1内で加熱し、水素雰囲気下で一定時間保持することで該水素吸蔵合金3表面の酸化被膜を水素の還元反応により除去する。また、還元反応により生成した水は、水分吸着材4により除去するのが好ましい。
請求項(抜粋):
表面に酸化被膜が形成されて劣化した水素吸蔵合金を密閉容器内で加熱し、水素雰囲気下で一定時間保持することで該水素吸蔵合金表面の酸化被膜を還元反応により除去することを特徴とする水素吸蔵合金の再生方法。
IPC (5件):
C22C 1/00 ,  C22B 5/12 ,  H01M 4/38 ,  C01B 3/00 ,  C22C 14/00
FI (5件):
C22C 1/00 N ,  C22B 5/12 ,  H01M 4/38 A ,  C01B 3/00 A ,  C22C 14/00 A
Fターム (18件):
4G040AA01 ,  4G140AA01 ,  4K001AA42 ,  4K001BA22 ,  4K001DA10 ,  4K001EA03 ,  4K001HA09 ,  5H050AA00 ,  5H050AA19 ,  5H050BA14 ,  5H050CB16 ,  5H050CB17 ,  5H050CB18 ,  5H050GA02 ,  5H050GA12 ,  5H050GA15 ,  5H050GA27 ,  5H050HA20
引用特許:
審査官引用 (7件)
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