特許
J-GLOBAL ID：200903049381525958
セラミックスセッター及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
近藤 利英子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252451
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145672
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 電子デバイス部品等の製造の際に行われる焼成等の過程に用いた場合に、高い通気性を示し、有機物等に対し高い除去効率を達成し、セッター内での雰囲気ガスの均一分散と、外部への容易な移動を実現でき、上記部品等の品質や生産性の向上に繋がるセラミックスセッター、該セッターの製造方法の提供。【解決手段】 セラミックス系電子デバイス部品の製造や、射出成形によって得られる金属系部品の製造の際における熱処理又は焼成工程で用いられる、複数の貫通孔を有するセラミックスセッターにおいて、該セッターが少なくとも70重量%のアルミナを含有し、上記貫通孔の形状が、その長手方向において内径が略同一の直線状であり、且つ上記複数の貫通孔の内径が0.3〜1mmであることを特徴とするセラミックスセッター、及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
セラミックス系電子デバイス部品の製造や、射出成形によって得られる金属系部品の製造の際における熱処理又は焼成工程で用いられる、複数の貫通孔を有するセラミックスセッターにおいて、該セッターが少なくとも70重量%のアルミナを含有し、上記貫通孔の形状が、その長手方向において内径が略同一の直線状であり、且つ上記複数の貫通孔の内径が0.3〜1mmであることを特徴とするセラミックスセッター。
IPC (4件)：
C04B 35/64
, C04B 35/101
, C04B 41/87
, F27D 3/12
C04B 41/87 R
, F27D 3/12 E
, C04B 35/64 J
, C04B 35/10 F
4G030AA07
, 4G030AA17
, 4G030AA36
, 4G030BA25
, 4G030GA08
, 4G030GA14
, 4G030GA21
, 4G030GA27
, 4K055AA05
, 4K055AA06
, 4K055HA02
, 4K055HA13
, 4K055HA14
, 4K055HA23
, 4K055HA25
, 4K055HA27
