特許
J-GLOBAL ID:200903049386616005
総固形分含量の高いアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンラテックスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-541971
公開番号(公開出願番号):特表2004-514001
出願日: 2001年11月09日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】本発明は、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン(ABS)ラテックスの製造方法に関し、特に、ブタジエンゴムにアクリロニトリル及びスチレンの単量体を乳化重合でグラフト重合させるアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンラテックスの製造方法において、総固形分含量の高いラテックスを製造する方法を提供する。【解決手段】本発明のアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンゴムラテックスは、i)ポリブタジエンゴムラテックス、ii)芳香族ビニル化合物、及びiii)ビニルシアン化合物に、反応型乳化剤を添加して乳化重合する段階を含む。本発明の製造方法によれば、従来のグラフト重合中に発生する凝固物や表面のフィルム生成物を減らし、生産量を増大させるので、総固形分含量の高いアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンラテックスを提供することができる。
請求項(抜粋):
i)ポリブタジエンゴムラテックス、
ii)芳香族ビニル化合物、及び
iii)ビニルシアン化合物に、
反応型乳化剤を添加して乳化重合する段階を含む、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンラテックスの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (17件):
4J026AC10
, 4J026AC18
, 4J026AC29
, 4J026AC32
, 4J026AC36
, 4J026BA05
, 4J026BA31
, 4J026DB04
, 4J026DB08
, 4J026DB14
, 4J026DB15
, 4J026DB17
, 4J026DB22
, 4J026DB26
, 4J026DB40
, 4J026FA04
, 4J026GA03
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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