特許

J-GLOBAL ID：200903049394046234

アルコキシシロキサンの製造方法

発明者： 五十嵐 実 ,  高橋 政晴
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-215365
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040681
出願日： 1995年08月01日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1) R1mSi(OR2)n ...(1)(式中、R1は置換又は非置換の一価炭化水素基、R2は炭素数1〜4のアルキル基を示す。mは0〜3の整数、nは1〜4の整数でm+nは4である。)で示されるアルコキシシランを、陽イオン交換樹脂の存在下で上記アルコキシシランのアルコキシ基の1.0倍未満の水と撹拌することを特徴とする一分子中にケイ素原子を2〜5個有するアルコキシシロキサンの製造方法。【効果】 本発明によれば、アルコキシシランから簡便な方法で一分子中にケイ素原子を2〜5個有するアルコキシシロキサンを得ることができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1) R1mSi(OR2)n ...(1)(式中、R1は置換又は非置換の一価炭化水素基、R2は炭素数1〜4のアルキル基を示す。mは0〜3の整数、nは1〜4の整数でm+nは4である。)で示されるアルコキシシランを、陽イオン交換樹脂の存在下で上記アルコキシシランのアルコキシ基の1.0倍未満の水と撹拌することを特徴とする一分子中にケイ素原子を2〜5個有するアルコキシシロキサンの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/18 ,  B01J 39/00 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07F 7/18 X ,  B01J 39/00 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• シラノール基を有する低分子量のオルガノシロキサンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-081706   出願人：信越化学工業株式会社