特許

J-GLOBAL ID：200903049458504886

機能水製造方法および装置

発明者： 佐藤 岳彦 ,  落合 史朗 ,  浦山 卓也
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学 ,  株式会社アドテック プラズマ テクノロジー
代理人 (1件)： 特許業務法人みのり特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-026604
公開番号（公開出願番号）：特開2009-183867
出願日： 2008年02月06日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】プラズマを利用して、安全かつ確実に消毒、殺菌を行うことができる方法を提供する。【解決手段】処理槽1と、給水源2と、給水源から処理槽に水Wを供給する給水手段3、4と、処理槽の上方に配置され、処理槽の水面に向けてプラズマを照射するプラズマ発生手段5と、プラズマ発生手段を支持する支持手段と、プラズマ発生手段にガスを供給するガス供給源11と、処理槽から、プラズマ処理された水Wを排出する排水手段12、13を備える。プラズマ発生手段は、処理槽の水中に電流を流すことなく発生させたプラズマを照射する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水に対し、水中に電流が流れないようにして発生させたプラズマを照射することによって機能水を製造する方法。

IPC (1件)：

C02F 1/30

FI (1件)：

C02F1/30

Fターム (7件)：

4D037AA01 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D037BB04 ,  4D037CA15

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 大気圧低温プラズマ殺菌方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-232016   出願人：四国化工機株式会社, 鯉沼秀臣, 内藤寿夫
• 低温乾式殺菌方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-290628   出願人：株式会社アドテックプラズマテクノロジー, トーヨーエイテック株式会社
• 殺菌方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-300911   出願人：藤森工業株式会社, 小駒益弘, 岡崎幸子