特許

J-GLOBAL ID：200903057878210627

低温乾式殺菌方法および装置

発明者： 佐藤 岳彦 ,  藤井 修逸 ,  浦山 卓也 ,  志田 彰典 ,  ラマサミー ラズ ,  藤岡 万也 ,  中谷 達行
出願人/特許権者： 株式会社アドテック プラズマ テクノロジー ,  トーヨーエイテック株式会社
代理人 (5件)： 武石 靖彦 ,  村田 紀子 ,  徳岡 修二 ,  重本 博充 ,  大角 菜穂子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290628
公開番号（公開出願番号）：特開2006-102004
出願日： 2004年10月01日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】 小型で簡便な装置を用いて、安全かつ確実に殺菌を行うことができる低温殺菌法を提供する。【解決手段】 ガスボンベ(ガス供給源)8と、ガスボンベ8から供給されたガスを励起して、高エネルギー粒子を含む温度非平衡状態のガスを発生させる高エネルギー粒子発生部1〜3と、高エネルギー粒子発生部1〜3で発生した温度非平衡状態のガスを外部の病原微生物に噴射させるガス噴出部4を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ガスを励起して、高エネルギー粒子を含む温度非平衡状態のガスを発生させ、前記温度非平衡状態のガスを病原微生物に噴射することによって殺菌を行うことを特徴とする乾式殺菌方法。

IPC (1件)：

A61L 2/14

FI (1件)：

A61L2/14

Fターム (4件)：

4C058AA01 ,  4C058BB06 ,  4C058DD07 ,  4C058KK06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 蒸気滅菌装置及びその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-165824   出願人：西山泰治
• 酸化エチレンガス滅菌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-285772   出願人：株式会社千代田製作所

審査官引用 (3件)

• プラズマ滅菌処理装置及びプラズマ滅菌処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-333134   出願人：松下電工株式会社
• 大気圧低温プラズマ殺菌方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-232016   出願人：四国化工機株式会社, 鯉沼秀臣, 内藤寿夫
• プラズマ殺菌装置および殺菌方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-139514   出願人：アブトックスインコーポレイテッド