プラズマ処理箱内に誘導的に結合されたプラズマ発生源を組み入れるための構造並びに方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-166511
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195297
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】均質なイオン流を作りだし、汎用のプラズマ処理箱に組み込むことのできる誘導的に結合されたRFプラズマ発生源の構造並びに組込み方法を提供する。【構成】アンテナ14をエポキシ16の中に封入し、それをプラズマ形成領域30から溶接密封する形で格納容器18の中に設置する。アンテナ14には少なくとも一つのRF電源装置40からRF整合ネットワーク42を通して電力が供給される。絶縁覆い板28を格納容器18とプラズマ形成領域30との間に配置して、均質なプラズマ密度が得られるようにする。

請求項（抜粋）：