特許
J-GLOBAL ID:200903049485120879
表面形状検出方法および投影露光装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-028064
公開番号(公開出願番号):特開平6-244081
出願日: 1993年02月17日
公開日(公表日): 1994年09月02日
要約:
【要約】【目的】 2分割した可干渉性単色光の一方(物体光)を試料面に照射して得られる反射光と上記他方の光ビ-ム(参照光)とを重畳させて得た干渉縞より算出する試料面の傾き、高さ等の検出精度を向上する。【構成】 試料面からの反射光を試料面と共役の位置にて結像させ、この結像光を再度試料面に照射してその反射光を試料に対して共役な位置に設けた光検出器に導き、光検出器上で上記参照光と重畳して干渉縞を得、この情報により試料面の傾き、高さ等を算出して試料面の位置を補正する。
請求項(抜粋):
所定の形状に整形した可干渉性単色光源の光ビ-ムを2分割し、その一方の光ビ-ム(物体光)を試料面に照射して得られる反射光と上記他方の光ビ-ム(参照光)とを重畳させて得られる干渉縞情報より上記試料面の傾き、高さ等を検出する表面形状検出方法において、上記試料面からの反射光を上記試料面と共役の位置にて結像させ、この結像光を再度上記試料面に照射してその反射光を上記試料に対して共役な位置に設けた光検出器に導き、上記光検出器上にて上記参照光と重畳して得られる干渉縞情報より上記試料面の傾き、高さ等を検出するようにしたことを特徴とする表面形状検出方法。
IPC (2件):
引用特許:
前のページに戻る