特許
J-GLOBAL ID：200903049500135985

汚染水中のヒ素除去法およびヒ素除去処理剤

発明者：
村上 裕

村上 裕 について

, 
松原 正明

松原 正明 について

, 
佐久間 均

佐久間 均 について


出願人/特許権者：
株式会社神戸製鋼所

株式会社神戸製鋼所 について


代理人 (4件)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-039735
公開番号（公開出願番号）：特開2006-312163
出願日： 2006年02月16日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：
【課題】アトマイズ法などによって製造される高密度で安価な鉄を主たる構成素材として利用し、被処理水中に含まれるヒ素を効率よく安価に除去することのできる方法とヒ素除去処理剤を提供すること。【解決手段】ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去する方法であって、S含量が0.05〜5質量%である鉄粉、またはS含量が0.05〜5質量%で且つMn含量が0.1〜10質量%である鉄粉を使用し、その表面に形成される鉄の酸化物および/または水酸化物に、水中のヒ素を吸着させて除去する。鉄粉としては、アトマイズ法によって製造される高密度の鉄粉が好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去する方法であって、S含量が0.05〜5質量%である鉄粉の表面に形成される鉄の酸化物および/または水酸化物に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする汚染水中のヒ素の除去法。
IPC (2件)：
C02F 1/28 ,  B01J 20/06
FI (2件)：
C02F1/28 E ,  B01J20/06 A
Fターム (22件)：
4D024AA04 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024BC04 ,  4D024BC05 ,  4D024CA01 ,  4D024DA07 ,  4D024DB01 ,  4G066AA02A ,  4G066AA02C ,  4G066AA07D ,  4G066AA26D ,  4G066AA27B ,  4G066AA46D ,  4G066BA09 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08 ,  4G066EA13 ,  4G066FA37 ,  4G066FA40
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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