特許

J-GLOBAL ID：200903049513712949

磁気ディスク基板研磨用組成物

発明者： 石飛 健 ,  今井 文男 ,  宮田 憲彦 ,  別所 直紀 ,  貴堂 高徳 ,  阪本 博
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社 ,  山口精研工業株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-136821
公開番号（公開出願番号）：特開平10-008039
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】 表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高速研磨が可能であり、高密度記録が可能な磁気ディスクを得るのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】 水、αアルミナ研磨剤および研磨促進剤を含んでなる組成物であって、研磨促進剤がアセチルアセトン錯塩またはアセチルアセトン錯塩とアルミニウム塩からなる磁気ディスク研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水、αアルミナ及び研磨促進剤を含んでなる組成物であって、該研磨促進剤がアセチルアセトン錯塩であることを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-034177   出願人：昭和電工株式会社
• 特開平4-363385
  
• 特開平3-256665
  
• 特開平4-363385
  
• 特開平3-256665