研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福田武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-034177
公開番号（公開出願番号）：特開平9-204657
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：

【要約】【課題】コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高密度な磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。【解決手段】磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、コロイド粒子、硝酸アルミニウムからなる研磨スラリーに、ホスホン酸、フェナントロリン、アセチルアセトンアルミニウム塩の一種若しくは二種以上の混合物であるゲル化防止剤を含有させてなる。

請求項（抜粋）：